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रासायनिक फ़िल्टर के लिए सामग्री

Feb 19, 2022 एक संदेश छोड़ें

रासायनिक शुष्क निस्पंदन deodorization प्रौद्योगिकी संयुक्त राज्य अमेरिका से एक नई deodorization प्रौद्योगिकी है। इसका कोर विशेष प्रक्रिया द्वारा इलाज की जाने वाली फ़िल्टर सामग्री है। फिल्टर सामग्री को इसकी आंतरिक रासायनिक संरचना और उपयोग के अनुसार कई प्रकारों में विभाजित किया गया है, लेकिन इसमें मूल रूप से निम्नलिखित विशेषताएं हैं: यह मैंगनीज ऑक्साइड, मैग्नीशियम ऑक्साइड, सोडियम परमैंगनेट, फॉस्फोरिक एसिड और अन्य उत्प्रेरक ऑक्सीडेंट को संश्लेषित करने के लिए सब्सट्रेट के रूप में सक्रिय एल्यूमिना (यानी एल्यूमीनियम ऑक्साइड) का उपयोग करता है, यह भौतिक सोखना और रासायनिक प्रतिक्रिया के माध्यम से डियोडोराइजेशन के उद्देश्य को प्राप्त करने के लिए सक्रिय कार्बन के समान एक हनीकॉम्ब झरझरा संरचना में आकार दिया जाता है। भौतिक सोखना गंध अणुओं को पकड़ने और इकट्ठा करने के लिए रासायनिक सोखना फिल्टर सामग्री के लिए मुख्य तरीका है। भौतिक सोखना के माध्यम से, अपशिष्ट गैस में विभिन्न गंध अणुओं को बाद की रासायनिक प्रतिक्रिया अपघटन प्रक्रिया के लिए स्थितियां प्रदान करने के लिए रासायनिक फ़िल्टर सामग्री से प्रभावी ढंग से जोड़ा जा सकता है। रासायनिक प्रतिक्रिया deodorization का मुख्य साधन है, फिल्टर सामग्री पर प्रभावी रासायनिक घटकों के संश्लेषण के माध्यम से, adsorbed प्रदूषकों को स्थिर लवण या अन्य मोनोमर पदार्थों का उत्पादन करने के लिए रासायनिक रूप से विघटित किया जाता है, ताकि गंध पदार्थों के प्रभाव को समाप्त किया जा सके और अंतिम deodorization के उद्देश्य को प्राप्त किया जा सके।

 deodorization प्रक्रिया उल्लेखनीय प्रभाव है, विशेष रूप से कम दहलीज गंध घटकों के लिए है कि इलाज नहीं किया जा सकता है या बाजार पर सामान्य उपचार प्रक्रिया द्वारा पूरी तरह से इलाज नहीं किया जा सकता है; deodorization उपकरण एक छोटे से क्षेत्र को कवर करता है और विभिन्न सांद्रता के साथ अपशिष्ट गैस के उपचार के लिए उपयुक्त है। इसमें बाहरी प्रभावित करने वाले कारकों (जैसे तापमान और आर्द्रता) पर कोई सख्त आवश्यकताएं नहीं हैं और इसका मजबूत प्रभाव प्रतिरोध है; प्रतिक्रिया उत्पादों को माध्यमिक प्रदूषण के बिना सीधे लैंडफिल किया जा सकता है। 

 रासायनिक सूखी निस्पंदन deodorization उपकरण पंप स्टेशन के आवेदन में निम्नलिखित फायदे है:

 Pump4


रासायनिक शुष्क निस्पंदन deodorization प्रौद्योगिकी गंध पदार्थों के लिए बहुत उच्च हटाने की दक्षता है. सिवाय इसके कि बेंजीन, टोल्यूनि और जाइलीन जैसे अपेक्षाकृत स्थिर रासायनिक आणविक श्रृंखला वाले पदार्थ प्रतिक्रिया करना आसान नहीं है, इसमें सल्फर युक्त पदार्थों (जैसे हाइड्रोजन सल्फाइड, सल्फाइड और मर्केप्टन), नाइट्रोजन युक्त पदार्थों (जैसे अमोनिया, मेथिलामाइन और डाइमेथिलामाइन), वाष्पशील कार्बनिक यौगिकों, आदि सहित अन्य गंध पदार्थों के लिए उच्च निष्कासन दक्षता है, इसके व्यापक स्पेक्ट्रम और उच्च दक्षता से गंध के नियंत्रण में इसके अतुलनीय फायदे हैं। तीव्रता। आयामहीन गंध एकाग्रता का इसका नियंत्रण 50 से भी कम तक पहुंच सकता है, जो व्यावहारिक इंजीनियरिंग मामलों में साबित हुआ है। इसलिए, भविष्य में पंप स्टेशन के deodorization डिजाइन में, यदि रासायनिक शुष्क निस्पंदन प्रौद्योगिकी को अपनाया जाता है, तो संगठित उच्च ऊंचाई उत्सर्जन के रूप को पूरी तरह से त्याग दिया जा सकता है, कम ऊंचाई उत्सर्जन मोड (5 मीटर के भीतर ऊंचाई) को अपनाना संयंत्र सीमा पर असंगठित उत्सर्जन स्तर II (आयाम रहित 20) के मानक को पूरा करने के लिए पर्याप्त होगा।